低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。 低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。
低溫恒溫反應浴說明：
1.根據(jù)大空間制冷原理，采用全新改進蒸發(fā)器，降溫更迅速、溫度更均勻;
2.全新設(shè)計的專業(yè)電路，PID輸出，控溫更;
3.功能鍵均采用觸摸軟鍵;
4.溫度、時間數(shù)顯;
5.預約開機，延時關(guān)機;
6.具備超溫、差溫報警功能
7.采用風冷式全封閉壓縮機組，進口壓縮機，制冷量大;
8.可在工作槽內(nèi)進行低溫實驗或?qū)⒉蹆?nèi)冷液外引，冷卻機外實驗器;
低溫恒溫反應浴主要特點
1.風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。
2.微機智能控制,溫度溫度。
3.數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。
4.溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。
5.制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護。
隨著低溫恒溫反應浴的應用越來越廣泛，正確地了解干燥及干燥設(shè)備的工作機理有助于成功地完成干燥過程，但是仍然需要我們不斷地投人人力和物力去進一步進行干燥技術(shù)的研究和開發(fā)，以使其在生產(chǎn)高質(zhì)量產(chǎn)品的同時，有效地來提高工作效率。
